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        離子滲氮是利用低真空中氣體輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊工件表面，使金屬表面成分、組織結(jié)構(gòu)及性能發(fā)生變化的工藝過程。
        離子轟擊處理過程大致分為以下幾部分:         (1)利用輔助加熱源的熱輻射加熱工件，使工件上的油脂及其他揮發(fā)性物質(zhì)汽化后被真空泵排出爐外，這一步只針對(duì)帶輔助加熱雙熱源離子氮化爐。
        (2)離子清潔。借助離子轟擊，將工件表面上的油脂及臟污物質(zhì)轟擊出工件表面，使工件表面清潔。
        (3)活化表面。利用滲劑中分解的氫或凈氫，在直流電場中電離成正離子，并轟擊工件表面奪取工件表面氧化膜中的氧，從而達(dá)到活化金屬表面。
        (4)離子或分子離子在活化的金屬表面凝聚，發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)，即吸收電子變成活性原子或分子離子吸收電子降價(jià)析出活性原子滲入金屬基體。由于離子或分子離子轟擊能量較大， 使?jié)B入活性原子進(jìn)入4~ 5層原子厚度內(nèi)。   
        (5)離子轟擊能量非常大，有人對(duì)離子轟擊陰極能量做過實(shí)驗(yàn)， 電壓在800 V時(shí)離子能量相當(dāng)于520e 氣體氮化時(shí)鐵表面氮原子能量的3000倍。這樣大能量的離子沖擊工件表面， 不僅引起陰極濺射， 而且使表面形成深度約0.05 mm的位錯(cuò)層。這一薄層位錯(cuò)的形成，給氮擴(kuò)散提供通道，從而加速了擴(kuò)散。         離子滲氮設(shè)備是把氣體輝光放電的試驗(yàn)裝置變?yōu)楣I(yè)生產(chǎn)所需的設(shè)備。青島豐東熱處理生產(chǎn)的全新一代等離子滲氮爐集獨(dú)特的結(jié)構(gòu)形式、先進(jìn)的控制手段、多種復(fù)合技術(shù)于一身，能耗更低、排放更少，熱處理工藝水平大幅提升，處理質(zhì)量更加穩(wěn)定可靠。